氬離子拋光儀利用氬離子拋光技術(shù)，通過(guò)離子束對(duì)樣品表面進(jìn)行削平拋光處理，以便利用掃描電鏡等顯微觀(guān)察工具觀(guān)察樣品表面的微觀(guān)特征。
 

　　氬離子拋光儀的原理：
 

　　氬離子拋光技術(shù)是對(duì)樣品表面進(jìn)行拋光，去除損傷層，從而得到高質(zhì)量樣品，用于在掃描電鏡，光鏡或者掃描探針顯微鏡上進(jìn)行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC或其它分析。針對(duì)不同的樣品的硬度，設(shè)置不同的電壓、電流、離子槍的角度、離子束窗口，控制氬離子作用的深度、強(qiáng)度、角度、這樣較ng準(zhǔn)的參數(shù)，有利于制備成研究者理想的材料樣品，這樣的樣品不僅表面光滑無(wú)損傷，而且還原材料內(nèi)部的真實(shí)結(jié)構(gòu)，正如頁(yè)巖內(nèi)部的細(xì)微孔隙在掃描電鏡下放大到10K時(shí)也能看得清清楚楚，以及材料內(nèi)部的不同物質(zhì)分層都能看的分界線(xiàn)明顯。
 

　　氬離子拋光儀的切割和拋光兩項(xiàng)功能：
 

　　①配溫控液氮冷卻臺(tái)，去除熱效應(yīng)對(duì)樣品的損傷，有助于避免拋光過(guò)程中產(chǎn)生的熱量而導(dǎo)致的樣品融化或者結(jié)構(gòu)變化;
 

　　②配碳/鉻鍍膜，對(duì)于同一個(gè)樣品，可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜，防止樣品氧化，可以用于SEM/FIB導(dǎo)電鍍膜樣品制作。
 

　　氬離子拋光在材料制樣的特出優(yōu)點(diǎn)：
 

　　①對(duì)由硬材料和軟材料組成的復(fù)合材料樣品,能夠很精細(xì)地制作軟硬接合部的截面,而使用傳統(tǒng)方法制樣是很困難的。
 

　　②比FIB方法的拋光面積更大(~1mm以上)。
 

　　氬離子拋光儀可以運(yùn)用于各種材料樣品(除了液態(tài))的制備，適應(yīng)大多數(shù)材料類(lèi)型，對(duì)大面積、表面或輻照及能量敏感樣品尤佳：鋼鐵、地質(zhì)、油頁(yè)巖、鋰離子電池、光伏材料、薄膜、半導(dǎo)體、EBSD、生物材料等包括平面拋光與截面拋光。